— ASML时代过去了？EUV迎最大对手：佳能同级光刻机便宜十倍 —

多年来，在光刻机领域荷兰的ASML都处于最顶端的位置，无论在技术上还是市场上都是如此，目前全球最强的芯片代工厂，包括台积电、三星以及Intel，都采用的是ASML的EUV光刻机，而不同国家其他晶圆厂，也几乎清一色使用了ASML的DUV光刻机。而从光刻机生产厂商来说，之前日本一度是这个市场的最大赢家，但现在已经没落；而中国虽然也在研发自己的光刻机，但技术和性能和ASML相比差距还是非常大。

对于全球的芯片代工厂而言，ASML的光刻机的确最为出色，但问题在于一方面利用ASML光刻机，自己要在芯片生产技术研发上投入大量的成本；另一方面还是ASML的光刻机实在太贵了。目前ASML的EUV光刻机每台价值数亿美元，而下一代的极紫外线光刻机价格甚至超过十亿美元，这对任何一家芯片代工厂来说都是极大的压力。

而现在ASML的竞争者终于出现了——佳能。佳能实际上在早些时候已经宣布自己将开发新的纳米压印技术光刻机，而现在佳能已经正式启动了自家新一代光刻机的生产计划。佳能宣布将在日本新建一座半导体设备厂，目标将当前的产能提高一倍，总投资额超过500亿日元，计划在2023年动工，2025年春季开始营运。佳能计划提高光刻机产量，还将考虑生产能够以低成本制造尖端精细电路的下一代系统。

目前佳能在日本的两家工厂生产相关装置，可用于汽车控制系统等应用的晶片制造。新工厂将建在现有工厂基础上，这是佳能21年来建造的第一座光刻机设备新工厂。佳能计划将其新型芯片制造设备的定价定在ASMLEUV光刻机成本的一小部分，寻求在尖端设备领域取得进展。佳能此前推出了纳米压印N半导体制造系统，试图通过将该技术定位为比现有最先进工具更简便、更易获取的光刻替代方案，来重振其市场地位。

佳能的新型芯片制造机器可以利用极紫外曝光（EUV）技术，生产相当于5nm规模的芯片。佳能预计随着技术的持续进步和最佳化，自家的光刻机将有望实现下一代2nm的生产水平。佳能CEO 表示，该公司的纳米压印技术将可以为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，目前这种技术几乎完全属于该行业最大的公司。至于所需要的费用，佳能表示，自家光刻机的价格将比ASML的EUV光刻机"少一个零"，这意味着售价比ASML的EUV光刻机减少十倍，尽管佳能目前还没有定价。

有意思的是，佳能新的光刻机或许对中国企业有着很大的吸引力。目前ASML是EUV工具的唯一供应商，这种装置是世界上最先进的芯片制造机器，每台价值数亿美元。只有少数现金充裕的公司有能力投资于这些光刻机，且因为EUV光刻机在科技领域过于重要而限制出口到中国。而这也佳能销售自家新光刻机的希望，尽管在今年7月，日本扩大了对芯片制造出口的限制，但没有明确提到纳米压印光刻技术。所以理论上，佳能未来在日本不修改出口管控条例前，是有希望将自己的纳米压印光刻机卖给中国企业的。

不过这只是根据现有的出口管制条例中的漏洞来考虑，实际上佳能自己并不算很乐观，因为美国的出口管制中，所有14nm以上的技术产品都是禁止出口的。如果按照这一条来执行的话，佳能的纳米光刻机也无法卖到中国。不过无论如何，对于整个行业来说，如果有一个企业的光刻机能和ASML产生竞争，总是一件好事，无论是从技术进步的角度还是从成本角度来看都是如此。

纳米压印技术其实对于佳能来说，已经研发了很久，多年来佳能都和铠侠在这一领域合作，纳米压印技术将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称与最先进节点相当的几何形状的芯片，尽管速度要慢得多。佳能的光刻机让芯片制造商可以选择降低对代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等芯片代工制造商更有可能批次生产不同的芯片，而且这种机器所需的功率只有其EUV同类产品的十分之一。

当然纳米光刻机应该无法直接取代EUV光刻机，但佳能应该能创造新的需求和机会，至少让整个行业不必完全依赖ASML。而且从某个角度而言，这种技术方案也能为从业者打开新的思路。另外这也可以告诉国内的半导体技术人员，如果走老路无法短期创造出超越ASML的光刻机，那么能不能换一个新的技术角度呢？